包邮微纳加工及在纳米材料与器件研究中的应用

《纳米科学与技术》丛书序前言第1章 光学曝光1．1 光学曝光系统的基本组成1．2 光学曝光的基本原理与特征1．2．1 光学曝光的基本模式与原理1．2．2 光学曝光的过程1．2．3 分辨率增强技术1．3 短波长光学曝光技术1．3．1 深紫外与真空紫外曝光技术1．3．2 极紫外曝光技术1．3．3 X射线曝光技术1．3．4 LIGA加工技术1．4 光学曝光加工纳米结构1．4．1 泊松亮斑纳米曝光技术1．4．2 表面等离激元纳米曝光技术1．4．3 基于双层图形技术的纳米加工1．5 光学曝光加工三维微纳结构1．5．1 灰度曝光技术1．5．2 基于欠曝光的三维曝光技术1．5．3 基于菲涅耳衍射与邻近效应的三维曝光技术参考文献第2章 电子束曝光技术2．1 电子束曝光系统组成2．1．1 电子枪2．1．2 透镜系统2．1．3 电子束偏转系统2．2 电子束曝光系统的分类2．2．1 扫描模式2．2．2 束形成2．3 电子束抗蚀剂2．3．1 电子束抗蚀剂的性能指标2．3．2 电子束抗蚀剂制作图形工艺2．3．3 常用电子束抗蚀剂及其工艺过程2．3．4 特殊的显影工艺2．3．5 多层抗蚀剂工艺2．3．6 理想抗蚀剂剖面的加工2．4 电子束与固体的相互作用及邻近效应2．4．1 电子束与固体的相互作用2．4．2 邻近效应及校正2．5 充电效应及解决方法2．5．1 引入导电膜2．5．2 变压电子束曝光系统2．5．3 临界能量电子束曝光2．6 三维结构的制备2．6．1 平整衬底上三维结构的加工2．6．2 三维衬底上图形的制备2．7 电子束曝光分辨率2．8 新型的电子束曝光技术2．8．1 投影电子束曝光2．8．2 微光柱阵列电子束曝光2．8．3 反射电子束曝光参考文献第3章 聚焦离子束加工技术3．1 聚焦离子束系统的基本组成3．2 聚焦离子束的基本功能与原理3．2．1 离子束成像3．2．2 离子束刻蚀3．2．3 离子束辅助沉积3．2．4 FIB的传统应用3．3 聚焦离子束的三维纳米加工3．3．1 FIB刻蚀加工三维结构3．3．2 FIB沉积加工三维结构3．3．3 FIB辐照加工三维结构3．4 聚焦离子束技术的发展…… 第4章 激光加工技术第5章 纳米压印技术第6章 刻蚀技术第7章 薄膜技术第8章 自组装加工第9章 微纳加工在电学领域的应用第10章 微纳加工在光学领域的应用第11章 微纳加工在磁学领域的应用第12章 微纳加工在其他领域的应用索引