包邮全息技术-产业专利分析报告-(第62册)

第1章绪论
1.1研究背景
1.2技术分解
1.3研究方法
1.3.1数据库选用
1.3.2数据处理方式
1.3.3数据范围
1.3.4数据质量评估
1.4相关事项和约定
第2章全息技术全球专利申请分析
2.1全息存储
2.1.1全球专利申请
2.1.2申请趋势分析
2.1.3申请区域分布分析
2.1.4申请人分析
2.2全息检测
2.2.1全球专利申请分析
2.2.2专利布局国家或地区分析
2.2.3申请人分析
2.2.4申请类型、法律状态和技术构成分析
2.3全息显示
2.3.1全球专利申请
2.3.2申请量趋势分析
2.3.3主要申请人
2.3.4全球被引证数专利分析
2.4全息光学元件
2.4.1全球专利态势分析
2.4.2日本专利态势分析
2.5全息防伪
2.5.1专利申请趋势分析
2.5.2首次申请国家或地区分析
2.5.3申请人分析
2.5.4申请类型及法律状态分析
2.6小结
第3章全息技术中国专利申请分析
3.1全息存储
3.1.1专利申请趋势分析
3.1.2申请人分析
3.1.3申请类型和法律状态分析
3.1.4中国国内申请人分析
3.2全息检测
3.2.1专利申请趋势分析
3.2.2区域申请分析
3.2.3国内和国外申请人分析
3.2.4申请类型和法律状态分析
3.2.5中国专利续费/放弃趋势
3.3全息显示
3.3.1专利申请趋势分析
3.3.2主要申请人中国申请法律状态
3.4全息光学元件
3.4.1发展趋势分析
3.4.2专利类型
3.4.3法律状态
3.4.4申请人区域分析
3.4.5主要申请人分析
3.4.6主要发明人分析
3.5全息防伪
3.5.1专利申请分析
3.5.2国内省市专利分析
3.5.3申请人分析
3.5.4申请类型及法律状态分析
3.5.5技术分支分析
3.6小结
第4章全息存储重点技术分析
4.1概况
4.1.1技术背景
4.1.2全息存储概念和产业概况
4.1.3全息存储技术发展历程
4.2基础专利技术
4.2.1离轴光路
4.2.2同轴光路
4.2.3微全息技术
4.3重点专利介绍
4.3.1光源
4.3.2记录结构
4.3.3中间光学元件
4.3.4伺服控制
4.3.5存储材料
4.3.6数据处理
4.3.7复制方法
4.3.8盒体结构
4.4ECMA标准
4.5小结
第5章全息检测重点技术分析
5.1技术概况
5.2全息显微
5.2.1总体分析
5.2.2技术发展路线
5.2.3技术功效分析
5.2.4早期基础性专利分析
5.2.5重点专利
5.3小结
第6章全息显示重点技术分析
6.1“全息”概念的误用-舞台表演、AR/MR、其他
6.2三维全息显示技术
6.3全息显示的演进
6.4重点专利介绍
6.4.1计算全息
6.4.2光源
6.4.3光路设计
6.4.4追踪元件设计
6.4.5SLM设计
6.4.6针对特殊应用设计
6.5小结
第7章全息光学元件重点技术分析
7.1技术概况
7.1.1全息光学元件与传统光学元件的区别和联系
7.1.2全息光学元件的主要分类
7.1.3全息光学元件的理论发展脉络
7.1.4全息光学元件的制作材料
7.2中国专利技术分析
7.2.1功效分析
7.2.2中国重点专利
7.3日本专利技术分析
7.3.1技术分支分析
7.3.2日本重点专利
7.4全球重点专利分析
7.5小结
第8章全息防伪重点技术分析
8.1概念
8.2技术发展
8.2.1**代激光模压全息图像防伪技术
8.2.2第二代改进型激光全息图像防伪技术
8.2.3第三代加密全息图像防伪技术
8.2.4第四代激光全息防伪技术
8.3重点专利
8.3.1纸币或证件防伪
8.3.2防伪纸或防伪标识
8.3.3防伪设备及相关技术改进
8.3.4微全息图的结构
8.4小结
第9章主要申请人技术分析
9.1全息存储
9.1.1INPHASE
9.1.2OPTWARE
9.1.3通用电气
9.1.4索尼
9.1.5日立
9.1.6青岛泰谷光电工程
9.2全息显示
9.2.1SEEREAL
9.2.2LG
9.2.3三星
9.2.4京东方
9.2.5小结
9.3全息防伪
9.3.1中国印钞造币总公司
9.3.2泰宝集团
9.3.3湖北联合天诚
9.3.4大日本印刷
9.3.5凸版印刷
9.3.6德国捷德
第10章主要申请人的专利申请和运营策略
10.1全息存储
10.1.1INPHASE
10.1.2OPTWARE
10.1.3通用电气
10.1.4索尼
10.1.5日立
10.2全息防伪
10.2.1专利质押分析
10.2.2专利许可分析
第11章结论与建议
附录申请人名称约定表
图索引
表索引