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- ISBN:9787561250037
- 装帧:一般胶版纸
- 册数:暂无
- 重量:暂无
- 开本:16开
- 页数:230
- 出版时间:暂无
- 条形码:9787561250037 ; 978-7-5612-5003-7
内容简介
本书全面阐述了典型薄膜材料的制备、结构、性能和应用。内容包括:薄膜制备的真空技术基础、薄膜的物理气相沉积、薄膜制备的化学方法等。
目录
第1章 薄膜制备的真空技术基础 1.1 真空的基本知识 1.2 真空的获得 1.3 真空的测量 复习思考题 参考文献第2章 薄膜的物理气相沉积 2.1 真空蒸发镀膜 2.2 溅射镀膜 2.3 其他物理气相沉积技术 2.4 分子束外延镀膜技术 专题1 磁控溅射镀膜技术 复习思考题 参考文献第3章 薄膜制备的化学方法 3.1 薄膜的化学和电化学转化 3.2 薄膜的化学气相沉积 复习思考题 参考文献第4章 薄膜材料的表征与评价 4.1 薄膜厚度的测量与监控 4.2 表面成分和组织结构分析 4.3 物理和化学性能测试 4.4 力学性能测试 专题2 非晶碳膜的结构和性能表征方法 复习思考题 参考文献第5章 功能薄膜材料及其应用 5.1 光电薄膜 5.2 磁性薄膜 复习思考题 参考文献第6章 超硬薄膜材料及其应用 6.1 金刚石膜 6.2 非晶碳膜 6.3 氮化碳(CNx)薄膜 复习思考题 参考文献
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