光子微结构的设计、制备与表征研究

第1章 绪论 1.1 研究背景与意义 1.2 光子微结构制备技术的研究现状 1.2.1 传统的光子微结构制备技术 1.2.2 光感应技术制备光折□光子微结构 1.3 本书的主要研究内容和特色 1.3.1 本书的主要研究内容 1.3.2 本书的特色 1.4 本书的结构安排 参考文献 第2章 光感应技术的理论基础 2.1 电光效应 2.2 光折□效应 2.3 光折□过程的带输运模型 2.4 光折□材料——铌酸锂晶体 2.5 光波在非线性光学介质中传播的基本方程 2.6 光折□非线性 2.6.1 线性电光效应 2.6.2 带运输模型 2.6.3 各向同性近似模型 2.6.4 各向异性模型 2.7 周期性光学微结构 2.7.1 光子带隙频谱 参考文献 第3章 光折□准晶光子微结构的制备与表征 3.1 准晶光子微结构的研究背景 3.2 多针孔板方案的理论基础 3.3 二维光折□准晶光子微结构的制备与表征 3.4 三维光折□准晶光子微结构的制备与表征 3.5 本章小结 参考文献 第4章 大面积二维光折□光子微结构的制备与表征 4.1 多透镜板法制备大面积二维光折□光子微结构 4.1.1 多透镜板法的基本原理 4.1.2 大面积二维三角品格光子微结构的制备与表征 4.2 多楔面棱镜法制备大面积二维光折□光子微结构 4.2.1 多楔面棱镜的基本原理 4.2.2 大面积二维四方晶格与准晶光子微结构的制备与表征 4.3 本章小结 参考文献 第5章 二维复杂光折□光子微结构的制备与表征 5.1 基于多光束干涉原理的复合周期光子微结构制备 5.1.1 多光束干涉产生复合周期光强图案的原理 5.1.2 多光束干涉制备复合周期光子微结构 5.2 基于投影成像方法的复杂光子微结构制备 5.2.1 投影成像法的原理与基础 5.2.2 投影成像法中光源的选取 5.2.3 投影成像法制备复杂类型光子微结构 5.3 本章小结 参考文献 第6章 光折□光子微结构的布拉格光学特性研究 6.1 布拉格衍射与布拉格条件 6.2 正向入射的布拉格衍射分析 6.2.1 晶体正向放置 6.2.2 晶体斜45°放置 6.3 侧向入射的布拉格衍射分析 6.4 本章小结 参考文献 第7章 总结与展望 7.1 本书总结 7.2 研究展望