- ISBN:9787122127808
- 装帧:一般胶版纸
- 册数:暂无
- 重量:暂无
- 开本:16开
- 页数:310
- 出版时间:2012-08-01
- 条形码:9787122127808 ; 978-7-122-12780-8
本书特色
《真空镀膜》是在1990年作者为高等工业学校教材而主编的《真空镀膜技术与设备》的基础上,吸取了国内外真空镀膜技术新发展,并按照《真空科学技术丛书》要求突出近代技术进步、注重系统、强调实用性、突出丛书指导思想而重新编写的。其特点:一是在真空镀膜概论中,将薄膜材料,影响固体表面结构、形貌及其性能的因素,镀膜工艺特点,薄膜特征,应用,真空镀膜发展及*新进展作了论述;二是在真空镀膜技术基础中,将真空镀膜物理基础,气体分子运动论的基本定理,气体的流动与流导,气体的物理吸附和化学吸附,真空镀膜低温等离子体基础,薄膜的生长与膜结构及影响因素作了论述;三是介绍了各种蒸发源与溅射靶,包括了各种蒸发源的设计、特点、使用要求及选材用公式、图表等;四是对真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、离子束沉积及离子束辅助沉积、化学气相沉积等方法,从原理到设备特点作了介绍;对薄膜的测量与监控,对薄膜形貌观察及其结构与组成的分析方法作了论述;五是真空镀膜技术中的清洁处理,重点讲述了真空镀膜设备污染物、真空镀膜材料基片的各种清洁方法、真空镀膜工艺对环境的要求,并附了真空镀膜设备通用技术条件等国家标准。本书的内容能提高读者在真空镀膜工程上解决实际问题的能力,是一本有一定深度及针对性,更有通用性的科技书籍。 本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用,亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。 需要向读者说明的:(1)该书第1章真空镀膜概论中143~151,是由崔遂先高级工程师编写完成的;(2)原手稿第5章533大面积连续式磁控溅射镀膜设备是由谈治信高级工程师编写完成的;(3)第11章真空镀膜技术中的清洁处理是邱家稳完成编写的。 技术编辑谈治信对书稿进行了编辑加工,2009年7月由丛书编委会达道安、杨乃恒、姜燮昌、徐成海、崔遂先、谈治信等专家进行了评审定稿。定稿后由邱家稳进行了校对。 本书在编写过程中,还得到了丛书编辑部崔遂先、曹艳秋、权素君等同志的大力支持,对他们所付出的辛勤劳动深表衷心的感谢!书中不妥和疏漏在所难免,敬请读者指出。 李云奇
内容简介
本书是本着突出近代真空镀膜技术进步,注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章,内容包涵了真空镀膜中物理基础,各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求,各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控,真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。 本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用,亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。
目录
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