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华年日拾——梁骏吾院士80华诞记怀

华年日拾——梁骏吾院士80华诞记怀

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图文详情
  • ISBN:9787030384447
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 开本:16开
  • 页数:335
  • 出版时间:2017-08-08
  • 条形码:9787030384447 ; 978-7-03-038444-7

内容简介

  《华年日拾:梁骏吾院士80华诞记怀》梳理和总结了中国工程院院土、物理学家梁骏吾50多年来从事半导体材料和材料物理学科研活动的历程。主要包括科研成果、学术论文、专利发明、学术报告、获奖情况和生平年表等内容。梁骏吾是我国早期半导体硅材料的奠基人,长期从事半导体硅材料的物理性质、硅单品的质量、硅单晶中的杂质行为、微缺陷等方面的研究,以及开拓新型半导体硅单晶材料的研究。

目录


我国新型硅材料的开拓者 记中国科学院半导体研究所研究员梁骏吾

学术论文
Investigation of Heterostructure Defects for IPE Ga1—xAlxAs/GaAs
Investigation of N—doped FZ Si Crystals
The Interaction Between Impurities and Defects in Semiconductors
Behaviors of Dislocations During Sl's Growth and Crystal Quality Assessment
Thermodynamic and Fluid Dynamic Analyses of GaAs Movpe Process
Photoluminescence Spectrum Study of the GaAs/Si Epilayer Grown by using a Thin Amorphous Si Film as Buffer Layer
Dissociated Screw Dislocation Which Can Relieve Strain Energy in the Epitaxial Layer of GeSi on Si(001)
Hrtem Study of Dislocations in GeSi/Si Heterostructures Grown by VPE
Kinetics and Transport Model for the Chemical Vapor Epitaxy of GexSi1—x
The Dependence of GexSi1—x Epitaxial Growth on GeH4 Flow Using Chemical Vapour Deposition
Physical Properties and Growth of SiC
Study on Photoluminescence Spectra of SiC
Raman Study on Residual Strains in Thin 3C—SiC Epitaxial Layers Grown on Si(001)
Investigation of {111} A and {111} B Planes of c—GaN Epilayers Grown on GaAs(001)by MOCVD
Microtwins and Twin Inclusions in the 3C—SiC Epilayers grown on Si(001) by APCVD
Determination of Structure and Polarity of SiC Single Crystal by X—Ray Diffraction Technique
Is Thin—Film Solar Cell Technology Promising?
Optical and Electrical Properties of GaN:Mg Grown by MOCVD
Defect Cluster—Induced X—Ray Diffuse Scattering in GaN Films Grown by MOCVD
Growth of AlGaN Epitaxial Film with High Al Content by Metalorganic Chemical Vapour Deposition
Temperature Distribution in Ridge Structure InGaN Laser Diodes and Its Influence on Device Characteristics
Abatement of Waste Gases and Water During the Processes of Semiconductor Fabrication
Control of Arsenic Pollution from Waste Gases During Fabrication of Semiconductor
O летучести окиси бора в тешии и воДороДе при НаЛичии воДяНого пара
O расТворимосТи кислорДа в ЖиДком кремНии
直拉硅单晶碳沾污的研究
LPE Ga1—xAlxAs/GaAs界面缺陷观察
Si—C相图的研究及碳对硅单晶质量的影响
掺氮区熔硅单晶深能级的研究
Ge在GaAs液相外延中的行为
杂质在硅和砷化镓中行为
两性杂质锗在IPE GaAs中分凝系数和占位比的计算
半导体(目录)
水平式矩形硅外延系统的计算机模拟
低压MOCVD生长的InGaAs/InP量子阱的光致发光谱线线宽及量子尺寸效应的测量分析
GaAs/Si外延层X射线双晶衍射摇摆曲线的动力学模拟和位错密度的测量
SIPOS膜的结构组成
半导体材料与器件生产工艺尾气中砷、磷、硫的治理及检测
GeSi CVD系统的流体力学和表面反应动力学模型
MOVPE生长Ca(CH3)3—AsH3—H2体系中砷的形态转化及砷的治理
用固相外延方法制备Si1—x—yGexCy三元材料
兴建年产一千吨电子级多晶硅工厂的思考
电子级多晶硅的生产工艺
中国信息产业领域相关重点基础材料科技发展战略研究
中国硅材料工业的前景与挑战
半导体硅片生产形势的分析
光伏产业面临多晶硅瓶颈及对策
“十五”期间中国半导体硅材料发展战略思路和建议
薄膜光伏电池中的材料问题
降低超大规模集成电路用高纯水中总有机碳的能量传递光化学模型

附录
附录一 梁骏吾活动年表
附录二 梁骏吾获奖情况
附录三 所获得的专利目录
附录四 学术报告目录
附录五 工程院院土建议
后记
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