真空镀膜技术

1 薄膜与表面技术基础理论
1.1 概述
1.2 固体表面介绍
1.2.1 固体材料
1.2.2 固体表面与界面的基本概念
1.2.3 固体表面与界面的区别
1.3 表面晶体学
1.3.1 金属薄膜的晶体结构
1.3.2 理想的表面结构
1.3.3 表面与体内的差异
1.3.4 清洁表面结构
1.3.5 实际表面结构
1.4 表面特征(热)力学
1.4.1 表面力
1.4.2 表面张力与表面自由能
1.4.3 表面扩散
1.5 表面电子学
1.5.1 金属薄膜中的电迁移现象
1.5.2 增强薄膜抗电迁移能力的措施
1.6 界面与薄膜附着
1.6.1 界面层
1.6.2 附着及附着力
1.6.3 固体材料表面能对附着的影响
1.6.4 表面、界面和薄膜的应力
1.6.5 增强薄膜附着力的方法
1.7 金属表面的腐蚀
1.7.1 电化学腐蚀
1.7.2 金属的钝化
1.7.3 全面腐蚀
1.7.4 局部腐蚀
2 真空蒸发镀膜
2.1 概述
2.2 真空蒸发镀膜原理
2.2.1 真空蒸发镀膜的物理过程
2.2.2 蒸发过程中的真空条件
2.2.3 镀膜过程中的蒸发条件
2.2.4 残余气体对膜层的影响
2.2.5 蒸气粒子在基片上的沉积
2.3 蒸发源
2.3.1 电阻加热式蒸发源
2.3.2 电子枪加热蒸发源
2.3.3 感应加热式蒸发源
2.3.4 空心热阴极电子束蒸发源
2.3.5 激光加热蒸发源
2.3.6 电弧加热蒸发源
2.4 特殊蒸镀技术
2.4.1 闪蒸蒸镀法
2.4.2 多蒸发源蒸镀法
2.4.3 反应蒸镀法
2.4.4 三温度蒸镀法
3 真空溅射镀膜
3.1 溅射镀膜原理
……
4 真空离子镀膜
5 真空卷绕镀膜
6 化学气相沉积cvd技术
7 离子注入与离子辅助沉积技术
8 ito导电玻璃镀膜工艺
9 薄膜工的测量与监控
10 表面与薄膜分析检测技术
参考文献