甚短距离光传输技术

序 前言 **章 概述 1.1 甚短距离光传输（VSR）技术 1.1.1 VSR的定义和标准 1.1.2 VSR在网络体系中的位置 1.1.3 VSR技术的基本工作形式 1.1.4 VSR技术的主要特点 1.1.5 VSR技术的发展历史、研究现状和发展趋势 1.2 垂直腔面发射激光器（VCSEL）简介 1.2.1 VCSEL的产生背景与发展过程 1.2.2 VCSEL的主要特点 1.2.3 VCSEL技术的应用范围 1.2.4 VCSEL技术的发展前景 第二章 VCSEL的原理和制作工艺 2.1 VCSEL的设计与分析 2.1.1 VCSEL的理论分析 2.1.2 VCSEL的总体结构设计 2.1.3 VCSEL中反射镜的设计 2.1.4 VCSEL光腔的设计 2.2 VCSEL的工艺及其制备 2.2.1 MBE工艺 2.2.2 MOCVD工艺 2.3 几种典型的VCSEL结构及其制作工艺 2.3.1 刻蚀空气柱型 2.3.2 离子注入型 2.3.3 再生长型 2.3.4 选择氧化型 2.4 VCSEL的特性分析 2.4.1 VCSEL的稳态特性分析 2.4.2 VCSEL的动态特性 2.5 VCSEL的中间测量技术 2.5.1 微区光反射谱测量法 2.5.2 VCSEL的边发射测量 第三章 10Gb/s VSR的基本功能结构 3.1 OIF-VSR的接口和应用范围 3.1.1 OIF-VSR的接口分类 3.1.2 OIF-VSR的参考应用模型 3.2 VSR4的主要规范和功能结构 3.2.1 VSR4-1.0规范 3.2.2 VSR4-2.0规范 3.2.3 VSR4-3.0规范 3.2.4 VSR4-4.0规范 3.2.5 VSR4-5.0规范 3.3 VSR4-1.0规范的功能实现 3.3.1 SDH/SONET的一些基本概念 3.3.2 VSR4-1.0规范的功能实现 3.4 VSR4-1.0的主要性能指标 3.4.1 VSR4-1.0的光接口规范 3.4.2 VSR的电接口标准 3.4.3 SFI-4-1.0接口标准 第四章 VSR的关键技术 4.1 并行光发射和接收模块 4.1.1 驱动电路 4.1.2 耦合技术 4.1.3 封装技术 4.1.4 并行光发射和接收模块的技术参数 4.2 探测器技术 4.2.1 光吸收与光电探测器物理机理 4.2.2 光电探测器性能参数 4.2.3 PIN光电二极管 4.2.4 基于标准CMOS工艺的集成光电探测器 4.2.5 定制CMOS工艺下的PIN光电探测器集成 4.2.6 标准工艺下硅基光电集成的应用 4.3 光纤传输技术 4.3.1 光纤的数值孔径 4.3.2 光纤模式 4.3.3 光纤的传输特性 4.3.4 光纤标准和技术指标 4.3.5 多模光纤的带宽 4.4 CWDM技术 4.1.1 CWDM的技术标准 4.4.2 CWDM系统的关键技术 第五章 40Gb/s VSR的基本功能结构和实现 5.1 VSR5的电接口标准 5.1.1 SPI-5接口 5.1.2 TFI-5接口 5.1.3 SFI-5接口 5.1.4 SxI-5接口 5.2 VSR5的基本功能结构和实现 5.2.1 40Gb/s VSR5并行12路技术方案 5.2.2 VSR5 CWDM 4×10Gb/s技术方案 5.2.3 串行光传输技术方案 第六章 应用甚短距离光传输的相关技术 6.1 高速以太网技术 6.1.1 以太网的主要技术分类 6.1.2 千兆以太网 6.1.3 万兆以太网 6.2 光纤通道技术 6.2.1 光纤通道的主要工作方式 6.2.2 光纤通道的分层结构 6.3 RapidIO技术 6.3.1 RapidIO的应用 6.3.2 RapidIO的原理和组成 6.4 Infiniband技术 6.4.1 Infiniband的应用 6.4.2 Infiniband的原理 参考文献 附录 缩略语英汉对照