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石墨烯热点领域专利信息分析

石墨烯热点领域专利信息分析

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图文详情
  • ISBN:9787513073288
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 开本:24cm
  • 页数:321页
  • 出版时间:2020-12-01
  • 条形码:9787513073288 ; 978-7-5130-7328-8

内容简介

本书以石墨烯相关专利申请为研究对象, 旨在通过对石墨烯技术相关专利申请的分析, 揭示石墨烯技术当前的专利申请特点和热点, 力求为科研界和产业界的研究人员在科学研究和项目开发中提供有价值的专利信息, 同时也为石墨烯技术产业化以及产业政策制定提供一定的参考。

目录

**章 国内外石墨烯技术的研究现状和产业发展现状
1.1 石墨烯产业研究概述
1.1.1 石墨烯技术的起源与发展
1.1.2 石墨烯的组成、结构和性质
1.1.3 石墨烯的制备方法
1.1.4 石墨烯的应用
1.1.5 石墨烯的产业现状
1.2 文献检索和数据处理
1.2.1 数据来源和数据范围
1.2.2 数据检索过程
1.2.3 检索结果筛选
1.2.4 技术分解
1.2.5 术语约定
第二章 石墨烯技术整体专利申请态势分析 023
2.1 全球石墨烯技术专利申请总体情况
2.1.1 专利总体分类及其申请趋势
2.1.2 专利区域分布
2.2 在华石墨烯专利技术申请总体情况
2.2.1 专利申请总体态势分析
2.2.2 国内外申请人申请量占比
2.2.3 在华专利申请总体技术分布
2.2.4 专利申请技术分布
2.3 申请人总体情况
2.3.1 全球主要申请人构成分析
2.3.2 在华主要申请人构成分析
2.3.3 主要申请人申请领域比较
2.4 本章小结
第三章 石墨烯制备技术和应用技术总体分析 045
3.1 石墨烯制备技术专利申请分析
3.1.1 制备技术分类与制备技术专利申请总体态势
3.1.2 制备技术专利申请区域布局
3.1.3 制备技术重要专利申请
3.1.4 制备技术主要申请人分析
3.2 石墨烯应用技术专利申请分析
3.2.1 应用技术分类与应用技术专利申请总体态势
3.2.2 应用技术专利申请区域布局
3.2.3 应用技术重要专利申请
3.2.4 应用技术主要申请人分析
3.3 本章小结
第四章 石墨烯制备重点技术专利分析 074
4.1 概述
4.2 化学气相沉积法
4.2.1 专利申请分析
4.2.2 主要申请人分析
4.2.3 重点专利技术分析
4.2.4 技术发展路线
4.3 氧化还原法
4.3.1 专利申请分析
4.3.2 主要申请人分析
4.3.3 重要专利技术分析
4.3.4 技术发展路线
4.4 本章小结
第五章 石墨烯涂料专利技术分析 151
5.1 石墨烯涂料
5.1.1 全球专利申请状况分析
5.1.2 在华专利申请状况分析
5.2 防腐涂料
5.2.1 概述
5.2.2 专利申请分析
5.2.3 技术分析
5.3 电性能涂料
5.3.1 概述
5.3.2 专利申请分析
5.3.3 导电涂料
5.3.4 导静电涂料
5.3.5 电磁屏蔽涂料
5.4 热性能涂料
5.4.1 概述
5.4.2 专利申请分析
5.4.3 技术分析
5.5 重点申请人分析
5.5.1 中国申请人
5.5.2 外国申请人
5.6 本章小结
第六章 石墨烯锂离子电池专利技术分析 219
6.1 全球专利技术发展趋势分析
6.1.1 全球专利申请趋势
6.1.2 全球专利申请来源及布局区域
6.2 在华专利技术发展趋势分析
6.2.1 在华专利申请趋势
6.2.2 在华专利申请来源及布局区域
6.3 重点申请人分析
6.3.1 全球主要申请人
6.3.2 在华主要申请人
6.4 重点专利分析
6.4.1 专利引用和同族规模分析
6.4.2 重点专利技术介绍
6.5 本章小结
第七章 石墨烯超级电容器专利技术分析 248
7.1 全球专利技术发展趋势分析
7.1.1 全球专利申请趋势
7.1.2 全球专利申请来源
7.1.3 全球主要申请人排名
7.1.4 全球专利申请技术分布
7.2 在华专利分析
7.2.1 在华专利申请趋势
7.2.2 在华专利申请来源
7.2.3 在华申请人类型
7.2.4 在华主要申请人排名
7.2.5 在华专利申请技术分布
7.2.6 在华专利申请类型和法律状态
7.3 重点申请人分析
7.3.1 主要申请人进入、退出趋势分析
7.3.2 海洋王照明科技股份有限公司
7.3.3 浙江大学
7.3.4 三星集团
7.4 重点专利分析
7.4.1 专利引用和同族专利规模分析
7.4.2 重点专利技术介绍
7.5 本章小结
第八章 石墨烯触摸屏专利技术分析 287
8.1 全球专利申请分析
8.1.1 申请趋势分析
8.1.2 技术来源国(地区/组织)分析
8.1.3 技术目标国(地区/组织)分析
8.1.4 全球申请人分析
8.2 在华专利申请分析
8.3 重要申请人分析
8.3.1 三星集团
8.3.2 欧菲光集团股份有限公司
8.3.3 京东方科技集团股份有限公司
8.4 重点专利分析
8.4.1 专利引用和同族专利规模分析
8.4.2 重点专利技术介绍
8.5 本章小结
第九章 展望和建议
展开全部

作者简介

本书主编郭雯,系国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心党委书记、中心主任,长期从事审查协作的工作。

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