真空镀膜技术与应用

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作者：田灿鑫主编

出版社：武汉理工大学出版社

本类榜单：工业技术

分类：工业技术 > 化学工业

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ISBN：9787562969792
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
开本：16开
页数：234
出版时间：2024-05-01
条形码：9787562969792 ; 978-7-5629-6979-2

本书特色

☆本书内容涵盖了从基础理论到实际应用的各个方面，为读者提供了一个全面的真空镀膜技术知识体系。 ☆本书详细阐述了真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等多种镀膜技术的原理，帮助读者深入理解各种技术背后的科学原理。 ☆本书介绍了薄膜厚度测量、薄膜分析检测技术以及工模具真空镀膜生产线的具体工艺流程，具有很强的实用性和指导性。 ☆本书内容强调了工程实践性，适合从事相关技术研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考。 ☆本书通过实际案例分析，展示了真空镀膜技术在不同领域的应用，如电子工业、光学工业、工具制造等。 ☆本书是真空镀膜技术领域的专业人士、研究人员以及对表面工程技术感兴趣的学者的参考资料。

内容简介

本书内容涵盖了真空镀膜的关键技术和实际应用。在介绍真空镀膜技术基础理论及应用的基础上，着重阐述了真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、等离子体增强化学气相沉积的原理、工艺、应用等，紧接着介绍了薄膜厚度的测量、薄膜分析检测技术等方面的内容，*后详细阐述了工模具真空镀膜生产线的具体工艺流程。本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用，賄很强的实用性。本书适合从事真空镀膜技术、薄膜与表面工程、材料工程等领域的研究、设计、设备操作及维护工作的技术人员阅读参考。

1 真空镀膜技术概论 1.1 真空镀膜技术分类 1.2 真空基础知识 1.3 真空镀膜系统 1.4 真空的获得 1.5 真空的测量 1.6 真空镀膜技术的应用 2 真空蒸发镀膜 2.1 真空蒸发镀膜的原理 2.2 蒸发加热方式及蒸发源 2.3 真空蒸镀工艺 2.4 真空蒸发镀膜技术的应用 3 真空溅射镀膜 3.1 溅射镀膜的特点 3.2 溅射的基本原理 3.3 直流溅射 3.4 射频溅射 3.5 磁控溅射 3.6 高功率脉冲磁控溅射 3.7 真空溅射镀膜技术的应用 4 真空离子镀膜 4.1 真空离子镀膜的分类 4.2 离子镀技术的原理 4.3 空心阴极离子镀 4.4 电弧离子镀膜 4.5 离子束沉积技术 4.6 真空离子镀膜技术的应用 5 等离子体增强化学气相沉积 5.1 化学气相沉积技术 5.2 等离子体增强化学气相沉积原理 5.3 等离子体增强化学气相沉积技术特点及发展趋势 5.4 等离子体增强化学气相沉积技术类型 5.5 各种新型等离子体增强化学气相沉积技术 5.6 等离子体增强化学气相沉积技术的应用 6 工模具真空镀膜生产线 6.1 PVD工模具涂层生产线 6.2 TiN、CrN涂层、AlCrN、AlTiN涂层 6.3 纳米晶非晶复合涂层TiSiN、TiBN 6.4 多元多层涂层、高熵合金涂层参考文献

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作者简介

田灿鑫，男，博士，副教授/高级工程师，硕士生导师，现工作于岭南师范学院。广东省“扬帆计划”引进紧缺青年拔尖人才，广东省真空学会理事，2012年博士毕业于武汉大学硬质耐磨涂层方向，长期从事PVD（物理气相沉积）、PECVD（等离子体增强化学气相沉积）工模具表面超硬耐磨涂层研发、生产工作。研究兴趣包括超硬纳米复合涂层的制备及微结构表征、离子束材料表面改性。曾经在爱恩邦德、武汉江海行等涂层技术及设备公司从事涂层研发生产工作，具有丰富的设备及工艺开发经验。主持的基金包括国家自然科学基金青年项目，企业创新人才项目，广东省科技厅国际合作项目，省自然科学基金，湖北省3551光谷人才计划等，发表学术论文30余篇，获国家发明专利20余项。

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