光刻胶材料评测技术-从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶
- ISBN:9787122438003
- 装帧:一般纯质纸
- 册数:暂无
- 重量:暂无
- 开本:16开
- 页数:256
- 出版时间:2024-04-01
- 条形码:9787122438003 ; 978-7-122-43800-3
本书特色
光刻胶是将图形转移到半导体基材上的关键材料之一,他是一个配方产品,由多种组分组成。光刻胶对纯度、杂质含量、固体颗粒等要求非常高,光刻胶的开发需要昂贵的设备、苛刻的环境及特殊专业技能人才。光刻胶的评测项目繁多,但光刻胶企业之间又相互保密。关于光刻胶评价方法的书籍少之又少,由于光刻胶的研究及产业化主要集中在日本、美国,相关资料也都是英文和日文,在国内几乎没有相关书籍出版。 《光刻胶材料评测-从酚醛树脂光刻胶到EUV光刻胶》一书由日本关口纯先生撰写,内容涉及光刻技术概述、感光性树脂涂覆、曝光技术、曝光后烘烤和显影技术、g/i线光刻胶评测技术、KrF/ArF光刻胶评测技术、ArF浸没式光刻胶和DP工艺评测技术、EUV光刻胶评测技术、纳米压印树脂的评测技术等方面,详细介绍了光刻胶的各种评价原理、方法、工艺及设备。另外本书还介绍了基于光刻胶的光学参数和显影速度数据进行光刻图案逼真模拟的技术与方法,这样可以大幅缩短光刻胶的开发周期,不仅节省资源而且效率更高。本书内容丰富,既有基础理论知识,又有实际操作流程;既涉及化学反应,又讲述设备原理及应用;既有数据分析,还有理论计算;从g/i线光刻胶开始,一直到目前先进的EUV光刻胶;对光刻胶的工作原理、工艺流程、检测方法进行了详细的讨论。
内容简介
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发,系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术,以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术,希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。
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