优化营商环境与知识产权法治完善(2019知识产权上地论坛)

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作者：中国社会科学院知识产权中心中国

出版社：知识产权出版社

本类榜单：法律

分类：法律 > 法的理论

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图文详情

ISBN：9787513071406
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
开本：32开
页数：289
出版时间：2020-09-01
条形码：9787513071406 ; 978-7-5130-7140-6

本书特色

适读人群：知识产权领域研究人员。收录论文紧扣当下热点知识产权领域话题，具有一定的学术参考价值。

内容简介

本书由“2019知识产权上地论坛”的部分很好论文汇编而成。本届论坛主题为“优化营商环境与知识产权法治完善”，旨在引导和推动学界对有利于营商环境建设的知识产权法治完善问题进行研究。本书所选论文中既有对近年来令人关注的著作权、商标、领域重要理论和实践问题的探讨，也包括对沿边自贸区知识产权保护、第三方取证存证平台数据的真实性这类具体问题的研究，方便读者了解相关领域的研究动向和近期新成果。

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