先进等离子体技术

第1章 等离子体生成与控制的基本方法
1.1 等离子体生成
1.1.1 低气压下的生成（＜0.1torr）
1.1.2 中气压下的生成（0.1～10torr）
1.1.3 高气压（大气压）下的生成（＞10torr）
1.2 能量控制
1.2.1 电子温度控制
1.2.2 离子能量控制
1.3 尘埃的收集与清除
致谢
参考文献
第2章 等离子体源与反应器配置
2.1 引言
2.2 ICP特性
2.2.1 原理
2.2.2 变压器模型
2.2.3 技术方面
2.3 源和反应器的配置
2.3.1 基板形状
2.4 结论
参考文献
第3章 工业等离子体应用的高级仿真
3.1 引言
3.2 PIC仿真
3.2.1 电容耦合的Ar/O2等离子体
3.2.2 三维（3D）充电仿真
3.3 流体仿真
3.3.1 电容耦合放电
3.3.2 大范国等离子体源
3.4 小结
致谢
参考文献
第4章 用于聚合物处理的氮气放电的建模与诊断
4.1 引言
4.2 实验
4.3 模型描述
4.4 结果与讨论
4.4.1 电特性
4.4.2 气相化学
4.4.3 等离子体与表面的相互作用
4.5 结论
参考文献
第5章 用于源和工业过程设计的热等离子体（射频与转移电弧）的三维建模
5.1 引言
5.2 感应耦合等离子体炬
5.2.1 建模方法
5.2.2 选定的仿真结果
5.3 直流转移电弧等离子体炬
5.3.1 建模方法
5.3.2 选择的仿真结果
参考文献
第6章 用于半导体处理的射频等离子体源
6.1 引言
6.2 电容耦合等离子体
6.2.1 双频CCP
6.3 电感耦合等离子体
6.3.1 基本描述
6.3.2 反常趋肤深度
……
第7章 用于薄膜沉积的先进等离子体诊断
第8章 电极非对称配置低频放电的聚合物材料等离子体处理
第9章 碳氟化合物薄膜等离子体沉积的基础
第10章 硅薄膜太阳能电池的等离子体化学气相沉积（CVD）工艺
第11章 用于太阳能电池的甚高频（VHF）等离子体生成
第12章 在反应等离子体中的团簇生长控制及其在高稳定性a-Si：H薄膜沉积中的应用
第13章 生物材料等离子体工艺中的微纳米结构：微纳米功能是解决选择性生物反应的有效工具
第14章 在生物医学应用的等离子体改性基板上化学固化生物分子
第15章 评估等离子体改性表面生物相容性的体外方法
第16章 生物医学中的冷气等离子体
第17章 低压等离子体杀菌消毒与表面净化的机理
第18章 大气压辉光等离子体的应用：大气压辉光等离子体中的粉末涂层
第19章 在大气压辉光介质阻挡放电中碳氢聚合物与碳氟聚合物薄膜的沉积
第20章 关于现代应用的大气压非热等离子体生成的评述
第21章 等离子体彩色显示的现状与未来
第22章 PDP等离子体特性
第23章 等离子体喷涂工艺的*新进展
第24章 电解液放电直接等离子体水处理工艺
第25章 先进空间推进技术的发展与物理问题