真空镀膜设备

1 真空镀膜设备设计概述2 真空镀膜室结构设计计算2.1 基本设计原则2.1 2镀膜室的材料选择与焊接要求2.2.1 材料选择2.2.2 焊接要求2.3 镀膜室壁厚的计算2.3.1 镀膜室的计算壁厚2.3.2 镀膜室的实际壁厚与壁厚附加量2.3.3 镀膜室的*小壁厚2.4 圆筒形镀膜室壳体的设计计算2.4.1 圆筒形镀膜室基本设计参数2.4.2 圆筒形镀膜室的强度(壁厚)计算2.4.3 外压圆筒加强圈的设计2.4.4 简体加工允许偏差2.4.5 镀膜室封头的壁厚计算2.5 圆锥形壳体的设计2.6 盒形壳体设计2.7 压力试验2.8 真空镀膜室门设计2.9 真空镀膜室的冷却3 镀膜室升降机构的设计3.1 立式镀膜机真空室的升降机构3.1.1 机械升降机构3.1.2 液压升降机构3.1.3 气动液压相结合的升降机构3.2 真空室的复位4 镀膜室工件架的设计4.1 常用工件架4.1.1 球面行星传动工件架4.1.2 摩擦传动工件架4.1.3 齿轮传动工件架4.1.4 拨杆传动工件架4.2 工件架的转速5 真空镀膜机的加热与测温装置5.1 加热方式及其装置5.2 测温方式与装置5.3 真空室内引线设计6 真空镀膜机的挡板机构7 真空镀膜机的抽气系统设计7.1 镀膜设备用真空系统7.1.1 普通镀膜设备用典型高真空系统7.1.2 超高真空系统7.2 真空镀膜机抽气系统的设计7.2.1 真空镀膜设备对抽气系统的要求7.2.2 镀膜机抽气系统的放气量计算7.2.3 真空泵的选择8 真空室内电和运动的导人导出结构设计8.1 电导人导出结构设计8.1.1 电导入导出结构设计要求8.1.2 电导入导出部件的结构形式8.2 运动导入导出结构设计8.2.1 常规转轴动密封导入导出结构8.2.2 磁流体动密封运动导入导出结构8.2.3 金属波纹管密封柔性运动导入导出结构8.2.4 磁力驱动动密封运动导入导出结构9 充布气系统设计9.1 充布气系统设计原则9.2 充布气系统结构设计9.2.1 充布气系统类型及结构9.2.2 布气管路结构形式9.2.3 充布气管路分析计算9.3 充气控制方式设计9.3.1 封闭式气压稳定充气控制9.3.2 质量流量控制器充气控制9.4 真空室内充大气时间计算10 电磁屏蔽结构设计10.1 真空镀膜设备屏蔽概述10.2 电磁辐射屏蔽设计11 蒸发源的设计计算11.1 电阻加热式蒸发源的热计算11.2 e型枪蒸发源的设计计算11.2.1 灯丝参数计算11.2.2 磁偏转线圈及灯丝位置的确定11.2.3 膜材蒸发时所需热量11.2.4 e型枪蒸发源的水冷却11.2.5 e型枪蒸发源的电源11.2.6 多枪蒸发源的设计安装11.3 感应加热式蒸发源的结构设计11.3.1 坩埚设计11.3.2 电源及其频率的选择11.4 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布11.4.1 点蒸发源的膜厚分布11.4.2 小平面蒸发源膜厚分布11.4.3 环形蒸发源11.4.4 矩形平面蒸发源11.4.5 蒸发源与基片的相对位置12 磁控溅射靶的设计12.1 靶磁场的设计原则12.1.1 磁场强度的选择12.1.2 磁场均匀性：12.1.3 矩形靶弯道磁场设计12.1.4 磁场设计改进方法12.2 磁控靶的磁场设计计算12.2.1 三维直角坐标系中的靶磁场12.2.2 矩形平面磁控溅射靶的磁场12.2.3 圆形平面磁控溅射靶的磁场计算12.2.4 同轴圆柱磁环溅射靶的磁场计算12.2.5 同轴圆柱条形磁体溅射靶的磁场计算12.2.6 S枪溅射靶的磁场计算12.3 平面磁控靶结构改进12.3.1 运动磁场的靶结构12.3.2 双环组合磁极靶结构12.3.3 组合磁场靶结构12.3.4 磁场分流靶结构12.3.5 其他磁体形式的靶结构12.4 永磁体及导磁片设计12.4.1 永磁体材料12.4.2 导磁垫片12.5 阳极与屏蔽罩的设计12.5.1 阳极设计12.5.2 屏蔽罩设计12.6 溅射靶水冷系统的设计与计算12.6.1 冷却水流速率的计算12.6.2 冷却水管内径的计算12.6.3 冷却水管长度12.7 靶材的设计选择12.7.1 靶材的种类12.7.2 靶材的选用原则12.7.3 对靶材的技术要求12.7.4 靶材与阴极背板的连接12.7.5 常用靶材12.8 磁控溅射靶设计方法12.8.1 靶设计分析方法12.8.2 磁控靶设计程序13 溅射镀膜的膜厚均匀性设计13.1 溅射镀膜不均匀性的原因及影响因素