基于微纳米工艺技术的新型光纤模式干涉器件原理与应用

第1章 绪论1.1 研究背景与意义1.2 典型光纤模问干涉器件的研究现状与发展趋势1.2.1 典型光纤模间干涉器件一：光纤光栅1.2.2 典型光纤模间干涉器件二：锥形光纤1.3 实现新型光纤模间干涉器件的微纳米工艺技术1.3.1 光纤表面和表层微纳米薄膜工艺1.3.2 微纳米光纤的加工工艺1.4 本书的研究思路与主要研究内容1.4.1 研究思路1.4.2 本书结构安排参考文献第2章 覆盖微纳米高折射率涂敷层的长周期光纤光栅的理论分析与模拟计算2.1 四层模型LPFG的模式耦合2.1.1 各包层模的有效折射率和传输常数2.1.2 耦合系数和耦合常数2.1.3 四层模型LPFG的模式耦合方程2.1.4 谐振条件2.2 四层模型LPFG的数值计算和模拟分析2.2.1 四层模型LPFG的透射谱的模拟计算方法2.2.2 高折射率微纳米涂敷层对LPFG模场分布的影响2.2.3 不同微纳米涂敷层折射率下的LPFG的频谱和大范围波长调谐2.2.4 LPFG的包层半径对谐振峰漂移量的影响2.3 本章小结参考文献第3章 具有弯曲结构的锥形微纳米光纤的理论分析与模拟计算3.1 锥形微纳米光纤的结构模型3.2 直锥形微纳米光纤的传输特性3.2.1 束腰区微纳米光纤的基本特性3.2.2 直锥形过渡区域的基本理论3.2.3 直锥形微纳米光纤传输谱的模拟计算3.3 弯曲的锥形微纳米光纤的传输特性3.3.1 弯曲的锥形过渡区域的绝热条件与非绝热条件3.3.2 非绝热弯曲的锥形过渡区域的模式耦合分析3.3.3 非绝热弯曲锥形微纳米光纤的传输谱的模拟计算3.4 本章小结参考文献第4章 覆盖微纳米液晶涂覆层的长周期光纤光栅特性的实验研究4.1 液晶材料简介及其折射率测量4.1.1 液晶的特点及分类4.1.2 液晶折射率的测量原理4.1.3 不同温度下液晶折射率的测量方法4.1.4 不同温度下液晶折射率的实验测量结果4.2 覆盖微纳米液晶涂覆层的LPFG器件的制备4.2.1 器件结构参数优化计算4.2.2 器件制备4.3 覆盖微纳米液晶涂覆层的LPFG器件的调谐特性研究4.3.1 热光调谐特性4.3.2 电光调谐特性4.3.3 特定温度下的大范围电光调谐特性4.4 本章小结参考文献第5章 基于弯曲结构锥形微纳米光纤的模间干涉仪特性的实验研究5.1 微纳米光纤拉伸系统及工艺简介5.2 微纳米光纤独特的物理特性5.3 基于弯曲结构的锥形微纳米光纤模间干涉仪的制备及传输谱特性5.4 基于弯曲结构的锥形微纳米光纤模间干涉仪的传感特性研究5.4.1 高灵敏度折射率传感特性5.4.2 温度特性5.4.3 微位移传感特性5.5 本章小结参考文献第6章 结束语6.1 本书主要工作6.1.1 覆盖高折射率微纳米涂敷层的LPFG的理论分析与实验研究6.1.2 具有弯曲结构的锥形微纳米光纤的理论分析与实验研究6.2 研究主要创新点6.3 工作展望