有机合成工艺研发——副反应抑制法

第1章 主反应与副反应
1．1 反应物种
1．1．1 亲核质点和亲电质点
1．1．2 亲核基团和亲电基团
1．1．3 亲核试剂和亲电试剂
1．1．4 亲核底物和亲电底物
1．2 反应质点的活性强弱
1．2．1 反应质点的活性判断
1．2．2 反应质点间的相对活性判断方法
1．3 极性反应三要素
1．3．1 亲核质点的亲核性
1．3．2 亲电质点的亲电性
1．3．3 离去基的离去能力
1．4 副反应的分子结构根源
1．4．1 问题反应基团
1．4．2 问题反应试剂
1．4．3 问题反应底物
1．5 主反应的选择性
1．6 主副反应质点的活性差异
1．6．1 主反应质点活性远高于副反应质点
1．6．2 主副反应质点的活性相当
1．6．3 主反应质点的活性低于副反应质点活性
1．7 副反应的基本类型
1．7．1 平行副反应
1．7．2 连串副反应
1．8 研究副反应的重要性
参考文献

第2章 杂质概述
2．1 杂质的分类与来源
2．2 杂质的走向
2．3 获得杂质信息的方法
2．3．1 杂质结构的推断
2．3．2 模拟杂质的生成实验
2．3．3 杂质的结构确证
2．3．4 统计实验设计法确定杂质的主要影响因素
2．4 杂质的合成
2．5 杂质的抑制策略
2．5．1 重点抑制反应过程产生的杂质
2．5．2 重点抑制影响产物收率和纯度的杂质
2．5．3 针对主要影响因素抑制杂质
2．6 杂质的清除难度
2．6．1 结构相似度
2．6．2 化学性质相似度
2．6．3 杂质清除难度分类
2．7 杂质的清除策略
参考文献

第3章 基于离去基团的副反应
3．1 离去能力与反应
3．1．1 良好离去基团满足的条件
3．1．2 相对离去能力决定反应是否发生
3．1．3 离去能力与反应机理
3．2 离去能力的影响因素
3．2．1 离去基团自身的影响因素
3．2．2 亲电试剂的分子结构影响离去能力
3．2．3 外部因素影响离去能力
3．3 离去基团的转化致活
3．3．1 氨基的转化
3．3．2 羟基的转化
3．3．3 硫原子的转化
3．3．4 卤素的转化
3．4 问题离去基团的副反应
3．4．1 β-消除和重排副反应
3．4．2 烷基化副反应
3．4．3 促进其他副反应的发生
3．4．4 碎裂反应
3．4．5 取代副反应
3．5 基于弱离去基团的副反应
3．5．1 硝基为离去基团的副反应
3．5．2 砜基为离去基团的副反应
3．5．3 缺电子芳醇作为离去基团
3．5．4 烷氧基作为离去基团引起的副反应
3．5．5 哌嗪作为离去基团
3．5．6 N-杂环丁烷的氨基作为离去基团
3．5．7 氨基氰作为离去基团
3．5．8 芳胺作为离去基团
3．5．9 甲硫基作为离去基团
参考文献

第4章 两可亲核试剂的区域选择性控制
第5章 问题亲电试剂的选择性控制
第6章 化学选择性控制（一）
第7章 化学选择性控制（二）——反应不充分与反应过度的控制
第8章 立体异构体的控制
第9章 常见的副反应
第10章 肽合成中的副反应
第11章 工艺过程产生杂质
第12章 副反应的抑制方法
第13章 杂质的清除方法（一）
第14章 杂质的清除方法（二）
第15章 反应放大对反应的影响
第16章 副反应抑制法研发合成工艺