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知识产权制度中的公共领域问题研究(第2卷)

知识产权制度中的公共领域问题研究(第2卷)

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图文详情
  • ISBN:9787576408133
  • 装帧:平装-胶订
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 开本:23cm
  • 页数:439页
  • 出版时间:2023-02-01
  • 条形码:9787576408133 ; 978-7-5764-0813-3

内容简介

本书是中国政法大学知识产权法国家重点学科负责人和学术带头人、中国知识产权法学研究会副会长冯晓青教授主持的国家社会科学基金重大项目“创新驱动发展战略下知识产权公共领域问题研究”的阶段性成果。该书立足于当前我国深入实施创新驱动发展战略和国家知识产权战略的新形势,以及在新时代大力提升知识产权法理论水平的迫切需要,针对创新驱动发展战略下专利法与公共领域、商标法与公共领域,以及公共领域视野下知识产权滥用、垄断及其法律规制等重要问题进行了深入研究。本书包括“专利法与公共领域问题”“商标法与公共领域问题”“公共领域视野下知识产权滥用、垄断及其法律规制”等部分:“专利法与公共领域问题”部分我国专利法中的现有技术抗辩制度、现有设计抗辩制度与公共领域的关系进行了清晰的解读,并从维护公共领域的角度提出了完善我国现有制度抗辩、现有设计抗辩制度的观点;“商标法与公共领域问题”部分在分析商标专用权、禁止权和公共领域的基础上,阐明了商标法上公共领域的表征和价值,为专门研究和理解商标法的价值构造提供了一种新的进路;“公共领域视野下知识产权滥用、垄断及其法律规制”部分就著作权滥用,涉及的反垄断问题,从保留公共领域的角度进行了深度解剖,针对实践中存在的专利权滥用现象,从有效维护公共领域的角度提出了规制对策。

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