光场中的原子分子及激光技术

序 前言 第1章 原子多光子电离 1.1 引言 1.2 原子多光子电离与光电子角分布 1.2.1 历史回顾 1.2.2 多光子电离的基本概念 1.2.3 铷原子的光电离通道 1.2.4 线偏振光双光子电离与光电子角分布的传统测量 1.2.5 原子参数对光电子角分布的影响 1.2.6 任意偏振光双光子电离光电子角分布理论 1.3 光电子成像实验 1.3.1 光学系统 1.3.2 光电子成像系统 1.3.3 真空系统与原子束的产生 1.3.4 地球磁场的影响及消除 1.4 铷原子双光子电离的完全测量 1.4.1 历史背景 1.4.2 数据采集及光电子角分布（电子云）影像的形成 1.4.3 原子光电离参数的确定 1.5 本章小结 参考文献 第2章 双通道光电离及量子干涉测量 2.1 量子干涉的基本概念及历史回顾 2.2 光电子角分布的相位控制 2.3 实验方法 2.3.1 双色激光场实验装置及调整 2.3.2 相位延迟盒 2.3.3 紫外与可见光相位差的测量 2.3.4 实验条件与实验程序 …… 第3章 激光光谱学的几个专题 第4章 分子的红外多光子离解 第5章 光学与激光技术 第6章 非接触光学层析成像 附录 主要名词术语英汉对照表